Anello isolante in allumina PVD per sistemi di deposizione fisica da fase vapore

L'anello isolante PVD di St.Cera è realizzato in allumina (Al₂O₃) ad elevata purezza (99,8%) per l'utilizzo in sistemi di deposizione fisica da fase vapore (PVD). L'anello fornisce isolamento elettrico tra i componenti della camera, prevenendo la formazione di archi elettrici e garantendo un funzionamento stabile del plasma. Le proprietà principali includono un'elevata rigidità dielettrica (15×10⁶ V/m), una resistenza specifica >10¹⁴ Ω·mm²/m e una stabilità termica fino a 1600 °C. Le nostre capacità di lavorazione di precisione consentono di ottenere diametri esterni fino a 600 mm, diametri interni fino a 0,2 mm, una planarità di 0,003 mm e una finitura superficiale Ra0,1. L'assenza di porosità e l'inerzia chimica dell'anello garantiscono un'affidabilità a lungo termine in ambienti di sputtering aggressivi.

Specifiche (basate su Al 99,8%)₂O₃e capacità produttive di St.Cera):

Applicazioni:

• · Isolatori per piastre di supporto target nei sistemi PVD
• · Isolatori passanti per camera
• · Isolatori ad anello di schermatura nei sistemi di sputtering
• · Isolamento ad alta tensione nelle camere al plasma

Precisione di fabbricazione:

Concentricità: 0,01 mm, rotondità: 0,002 mm, rettilineità: 0,005 mm, perpendicolarità: 0,005 mm, verificata tramite CMM.

Avantaggi rispetto agli isolanti polimerici:

• • Resiste a 1600 °C rispetto al limite di <300 °C dei polimeri
• · Nessuna emissione di gas – mantiene l'integrità del vuoto
• • Resiste all'erosione del plasma e all'attacco chimico

Personalizzazione:

Sono disponibili sezioni trasversali personalizzate, elementi di montaggio, profili a gradini e molteplici design ad anelli concentrici.