banner della pagina

Mandrino a vuoto in ceramica porosa per la movimentazione di wafer deformati

Mandrino a vuoto in ceramica porosa per la movimentazione di wafer deformati

Breve descrizione:

Il mandrino in ceramica porosa di St.Cera è realizzato in allumina ad elevata purezza con una porosità aperta uniforme del 30-45% e dimensioni dei pori comprese tra 10 e 100 μm. A differenza dei mandrini scanalati convenzionali, la superficie porosa fornisce un vuoto distribuito su tutta la parte posteriore del wafer, mantenendo saldamente in posizione wafer deformati, sottili o singoli senza sollevamento o rottura dei bordi. Il vuoto delicato (regolabile tramite un limitatore) previene inoltre la formazione di segni sulla parte posteriore.


Dettagli del prodotto

Etichette prodotto

Il mandrino in ceramica porosa di St.Cera è realizzato in allumina ad elevata purezza con una porosità aperta uniforme del 30-45% e dimensioni dei pori comprese tra 10 e 100 μm. A differenza dei mandrini scanalati convenzionali, la superficie porosa fornisce un vuoto distribuito su tutta la parte posteriore del wafer, mantenendo saldamente in posizione wafer deformati, sottili o singoli senza sollevamento o rottura dei bordi. Il vuoto delicato (regolabile tramite un limitatore) previene inoltre la formazione di segni sulla parte posteriore.

 

Schemi(basato sul 99,6% di Al)O):

Proprietà Valore
Porosità 30–45%
Dimensione media dei pori 10–100 μm (selezionabile)
Resistenza alla flessione ≥250 MPa
Planarità (oltre 300 mm) ≤5 μm
Finitura superficiale Lappato (Ra 0,8 μm)
Livello massimo di vuoto -80 kPa
Temperatura di esercizio 400 °C (aria), 600 °C (atmosfera inerte)
Materiale 99,6% Al₂O₃, ZrO₂ o SiC

 

Applicazioni:

rettifica del lato posteriore di wafer sottili (≤50 μm)

Montaggio di wafer deformati per il taglio a cubetti

Prelievo di un singolo chip dal nastro

Gestione dei pannelli in vetro

 

Produzione e qualità:

Polvere ceramica miscelata con agenti porogeni organici → pressata → sinterizzata → lappata fino allo spessore finale. Ogni mandrino viene sottoposto a test di flusso per uniformità del vuoto (deviazione ≤5%) e ispezionato per la distribuzione delle dimensioni dei pori (SEM). La planarità viene misurata con un interferometro laser.

 

Vantaggi rispetto ai mandrini scanalati:

Nessun segno sul bordo del wafer o spostamento del chip

Contiene wafer deformati (con curvatura fino a 500 μm)

Elimina l'intasamento del foro di aspirazione

Supporto autolivellante per substrati sottili

 

Personalizzazione:

Forme rotonde o rettangolari, fino a 600 mm di diametro. Possiamo applicare anelli di tenuta perimetrali o divisori per vuoto a zone. Disponibili versioni con rinforzo metallico per esigenze di elevata rigidità.

 

Richiedi un campione per il test di dimensione e deformazione del wafer.


  • Precedente:
  • Prossimo: