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Anello in ceramica di alta precisione in allumina Componenti in ceramica
Realizzati mediante pressatura isostatica a freddo e sinterizzati ad alta temperatura, quindi lavorati e lucidati con precisione, i componenti ceramici possono soddisfare qualsiasi requisito rigoroso delle apparecchiature per semiconduttori grazie alle loro caratteristiche di resistenza all'usura, alla corrosione, bassa dilatazione termica e isolamento. La ceramica può funzionare a lungo in diverse tipologie di apparecchiature per la produzione di semiconduttori, anche in condizioni di alta temperatura, vuoto o presenza di gas corrosivi.
Realizzato con polvere di allumina ad elevata purezza, lavorata mediante pressatura isostatica a freddo, sinterizzazione ad alta temperatura e finitura di precisione, può raggiungere una tolleranza dimensionale di ±0,001 mm, una finitura superficiale Ra 0,1 e una resistenza alla temperatura di 1600℃.
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ST.CERA - Apparecchiature per semiconduttori personalizzate - Mandrini in ceramica
Realizzati mediante pressatura isostatica a freddo e sinterizzati ad alta temperatura, quindi lavorati e lucidati con precisione, i componenti ceramici possono soddisfare qualsiasi requisito rigoroso delle apparecchiature per semiconduttori grazie alle loro caratteristiche di resistenza all'usura, alla corrosione, bassa dilatazione termica e isolamento. La ceramica può funzionare a lungo in diverse tipologie di apparecchiature per la produzione di semiconduttori, anche in condizioni di alta temperatura, vuoto o presenza di gas corrosivi.
Realizzato con polvere di allumina ad elevata purezza, lavorata mediante pressatura isostatica a freddo, sinterizzazione ad alta temperatura e finitura di precisione, può raggiungere una tolleranza dimensionale di ±0,001 mm, una finitura superficiale Ra 0,1 e una resistenza alla temperatura di 1600℃.
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Effettore finale in ceramica di carburo di silicio (SiC) – Elevata rigidità per la manipolazione di wafer ad alta temperatura
L'effettore terminale in ceramica SiC di St.Cera è realizzato in carburo di silicio ad elevata purezza (contenuto di SiC 99,72%, Si libero 0,05%) utilizzando il materiale del lotto S1111. Offre eccezionali proprietà meccaniche: resistenza alla flessione 449 MPa (misurata), modulo elastico 457 GPa (misurato) e durezza Vickers 25–28 GPa (tipica). La bassa densità (3,10–3,15 g/cm³, tipica) garantisce un'elevata rigidità specifica, ideale per robot di trasferimento wafer ad alta velocità. Con una conduttività termica di 120–150 W/m·K (tipica) e un coefficiente di dilatazione termica di 4,0–4,5×10⁻⁶/℃ (tipico), questo effettore terminale dissipa efficacemente il calore e mantiene la stabilità dimensionale durante la manipolazione ad alta temperatura (fino a 1600–1700 °C, senza carico). Il colore nero/grigio e l'assorbimento d'acqua pari a zero garantiscono la compatibilità con le camere bianche.
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Mandrino a vuoto in carburo di silicio (SiC) per ambienti ad alta temperatura e al plasma.
Il mandrino ceramico a base di SiC di St.Cera è realizzato in carburo di silicio ad elevata purezza (lotto S1111, SiC 99,72%, Si libero 0,05%). Offre una resistenza alla flessione misurata di 449 MPa, una tenacità alla frattura di 3,12 MPa·m¹/² e un modulo elastico di 457 GPa. La tipica conduttività termica del materiale (120–150 W/m·K) e la bassa dilatazione termica (4,0–4,5×10⁻⁶/℃) consentono un rapido aumento della temperatura e una minima deformazione del wafer durante i cicli termici. Il mandrino può essere configurato come mandrino a vuoto poroso (flusso di gas uniforme) o come mandrino standard scanalato. Grazie a una temperatura massima di utilizzo di 1600–1700 °C (a vuoto) e a un'eccezionale resistenza all'erosione da plasma, questo mandrino è ideale per la lavorazione di wafer ad alta temperatura (ricottura, RTP) e per camere di incisione aggressive, dove i mandrini in allumina si degradano.
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Componenti di ricambio in ceramica per apparecchiature a semiconduttore Supporti in ceramica
Realizzati mediante pressatura isostatica a freddo e sinterizzati ad alta temperatura, quindi lavorati e lucidati con precisione, i componenti ceramici possono soddisfare qualsiasi requisito rigoroso delle apparecchiature per semiconduttori grazie alle loro caratteristiche di resistenza all'usura, alla corrosione, bassa dilatazione termica e isolamento. La ceramica può funzionare a lungo in diverse tipologie di apparecchiature per la produzione di semiconduttori, anche in condizioni di alta temperatura, vuoto o presenza di gas corrosivi.
Realizzato con polvere di allumina ad elevata purezza, lavorata mediante pressatura isostatica a freddo, sinterizzazione ad alta temperatura e finitura di precisione, può raggiungere una tolleranza dimensionale di ±0,001 mm, una finitura superficiale Ra 0,1 e una resistenza alla temperatura di 1600℃.
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Anello di rettifica in ceramica di allumina con supporto metallico per applicazioni di lappatura ad alta rigidità.
L'anello di rettifica in allumina con base metallica di St.Cera combina uno strato di usura ceramico in allumina ad alta purezza (99,8% Al₂O₃) con un supporto metallico lavorato con precisione (tipicamente alluminio o acciaio inossidabile). Questa configurazione ibrida offre l'eccezionale resistenza all'usura e l'inerzia chimica della ceramica sulla superficie di rettifica, mentre la base metallica aggiunge resistenza meccanica, facilità di montaggio e resistenza alla frattura fragile. Lo strato di allumina offre una resistenza alla flessione di 361 MPa, una durezza Vickers di 16 GPa e una stabilità termica fino a 800 °C. La base metallica è personalizzabile con fori di montaggio, perni di posizionamento o proprietà magnetiche per l'integrazione in lappatrici, rettificatrici planetarie e apparecchiature CMP.
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Componenti di ricambio in ceramica per apparecchiature di stazioni di prova per semiconduttori
Realizzati mediante pressatura isostatica a freddo e sinterizzati ad alta temperatura, quindi lavorati e lucidati con precisione, i componenti ceramici possono soddisfare qualsiasi requisito rigoroso delle apparecchiature per semiconduttori grazie alle loro caratteristiche di resistenza all'usura, alla corrosione, bassa dilatazione termica e isolamento. La ceramica può funzionare a lungo in diverse tipologie di apparecchiature per la produzione di semiconduttori, anche in condizioni di alta temperatura, vuoto o presenza di gas corrosivi.
Realizzato con polvere di allumina ad elevata purezza, lavorata mediante pressatura isostatica a freddo, sinterizzazione ad alta temperatura e finitura di precisione, può raggiungere una tolleranza dimensionale di ±0,001 mm, una finitura superficiale Ra 0,1 e una resistenza alla temperatura di 1600℃.
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Lavorazione personalizzata del mandrino per wafer ceramici di Al2O3
Realizzati mediante pressatura isostatica a freddo e sinterizzati ad alta temperatura, quindi lavorati e lucidati con precisione, i componenti ceramici possono soddisfare qualsiasi requisito rigoroso delle apparecchiature per semiconduttori grazie alle loro caratteristiche di resistenza all'usura, alla corrosione, bassa dilatazione termica e isolamento. La ceramica può funzionare a lungo in diverse tipologie di apparecchiature per la produzione di semiconduttori, anche in condizioni di alta temperatura, vuoto o presenza di gas corrosivi.
Realizzato con polvere di allumina ad elevata purezza, lavorata mediante pressatura isostatica a freddo, sinterizzazione ad alta temperatura e finitura di precisione, può raggiungere una tolleranza dimensionale di ±0,001 mm, una finitura superficiale Ra 0,1 e una resistenza alla temperatura di 1600℃.
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Piastra ceramica per apparecchiature a semiconduttore personalizzate ST.CERA
Realizzati mediante pressatura isostatica a freddo e sinterizzati ad alta temperatura, quindi lavorati e lucidati con precisione, i componenti ceramici possono soddisfare qualsiasi requisito rigoroso delle apparecchiature per semiconduttori grazie alle loro caratteristiche di resistenza all'usura, alla corrosione, bassa dilatazione termica e isolamento. La ceramica può funzionare a lungo in diverse tipologie di apparecchiature per la produzione di semiconduttori, anche in condizioni di alta temperatura, vuoto o presenza di gas corrosivi.
Realizzato con polvere di allumina ad elevata purezza, lavorata mediante pressatura isostatica a freddo, sinterizzazione ad alta temperatura e finitura di precisione, può raggiungere una tolleranza dimensionale di ±0,001 mm, una finitura superficiale Ra 0,1 e una resistenza alla temperatura di 1600℃.
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Mandrino a vuoto in allumina da 12 pollici per la lavorazione di wafer da 300 mm
Il mandrino a vuoto da 12 pollici di St.Cera è progettato con precisione in allumina (Al₂O₃) ad alta purezza (99,8%) per la movimentazione di wafer da 300 mm. Il mandrino presenta una superficie finemente scanalata (larghezza della scanalatura 0,5–1,0 mm, passo 2–3 mm) per garantire una distribuzione uniforme del vuoto su tutto il diametro di 300 mm. La planarità è mantenuta entro 5 μm, consentendo un fissaggio del wafer senza deformazioni durante il taglio, la rettifica del lato posteriore e l'ispezione. L'elevata resistenza alla flessione (361 MPa) e la durezza (16 GPa) del materiale garantiscono una stabilità dimensionale a lungo termine anche in presenza di ripetuti cicli di vuoto.
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Effettore finale in ceramica di allumina con canali di aspirazione integrati
L'effettore finale a vuoto in allumina di St.Cera integra canali di aspirazione e fori di aspirazione lavorati con precisione direttamente nel corpo in allumina ad alta purezza (99,8%). Questa progettazione elimina i cuscinetti di aspirazione esterni, consentendo il prelievo diretto del wafer con una forza di tenuta uniforme. L'elevata resistenza alla flessione (361 MPa) e la durezza (16 GPa) del materiale garantiscono una stabilità dimensionale a lungo termine anche in presenza di cicli di aspirazione ripetuti. La planarità dell'area del cuscinetto si mantiene entro 10 μm, prevenendo sollecitazioni e rotture del wafer. Le porte di aspirazione sono posizionate sulla flangia di montaggio posteriore per una facile integrazione con i bracci robotici OEM.
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Componenti in ceramica di allumina antistatici per la manipolazione di wafer sensibili alle scariche elettrostatiche.
I componenti in ceramica di allumina di St.Cera, resistenti alle scariche elettrostatiche (ESD), sono realizzati con Al₂O₃ ad elevata purezza (99,8%) e presentano una resistività superficiale personalizzata di 10⁶–10⁹ Ω/quadrato, ottenuta tramite un processo di drogaggio o rivestimento proprietario. Questi componenti dissipano efficacemente la carica statica, prevenendo danni elettrostatici a wafer e dispositivi semiconduttori sensibili. Il materiale di base mantiene la sua elevata resistenza alla flessione (361 MPa), durezza (16 GPa) e rigidità dielettrica (15×10⁶ V/m). I componenti in ceramica resistenti alle scariche elettrostatiche includono effettori terminali, perni di sollevamento, guide e dispositivi di fissaggio personalizzati per l'automazione FAB.
